要知道，光刻机可是生产芯片非常重要的设备之一，如果没有光刻机，自然就很难生产出高端芯片了，即使国内对于光刻机已经研发很久了，但是却一直都没有太大突破，除了光刻机外，生产芯片还有一个非常重要的东西，那就是光刻胶。如果没有光刻胶，就算你有高端光刻机也是白费，可以说光刻胶技术也是一种非常重要的技术。

在我们关注中芯国际能否购买到荷兰ASML公司最高端的光刻机的时候，国内的南大光电传来一个好消息，目前国产ARF光刻胶取得了重大突破，可以用于22nm工艺，并且即将进入量产和销售。

这也就意味着国内在光刻机顶尖技术中取得了巨大的突破，并且能在光刻胶市场分一杯羹。要知道在之前的光刻胶市场，国内基本上是排不上号的。世界最先进的光刻胶技术在日本，以JSR、东京应化等为代表的四家日企，垄断了世界75％的光刻胶市场，美企在光刻胶市场占据13％的份额，而中国企业所占的市场份额不足10%，而且还是中低端市场！

在此之前，我国在高端光刻胶领域是空白的，而日企生产的可用于28nm到7nm工艺光刻机的光刻胶占据了93％，可见我国发展高端光刻胶的紧迫性。此次南大光电完成技术突破不仅能帮助我们占据更大的市场，还能给予国内光刻机研究更多的信心。

从目前的消息来看，南大光电已经实现了当初计划的目标了，只需要用时间投入量产就行。虽然耗费了三年的时间，但是能够缩短跟日美技术之间的差距也是一件值得的事情。不过，我国目前还没有能够生产出EUV工艺的光刻机，所以南大光电的光刻胶在中国市场并没有什么前景，但是能够跟日美企业在世界市场分一杯羹也是一个重大进步了。

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